반도체 장비업체 세메스가 국내 최초로 플라즈마 타입의 반도체 건식 세정장비(설비명 PURITAS)를 양산 개발했다고 21일 밝혔다.
이 장비는 반도체 패턴(미세회로) 미세화, 고집적화에 따른 기존 습식 세정방식의 한계를 극복하기 위해 개발됐다. 웨이퍼에 다이렉트 플라즈마를 쓰지 않고 리모트 플라즈마를 사용해 다양한 막질의 고선택적 세정 및 식각이 가능하고 생산성도 크게 향상했다.
이 장비는 3차원(3D) D램, CFET(상보형 전계효과 트랜지스터), 새로운 트랜지스터 구조인 GAA(게이트올어라운드) 제조에 사용될 전망이다.
반도체 세정장비 시장에서 연간 1조 원 이상의 매출을 올리고 있는 세메스는 자체 개발한 식각 기술을 세정장비 기술에 접목해 융복합 시너지 효과를 거두고 있다.
최길현 세메스 최고기술책임자(CTO)는 “올해 양산 1호기 출하를 시작으로 향후 3D 메모리와 로직 분야에서 수요가 늘어날 것으로 예상되는 만큼 드라이 클리닝 시장에서 주도권을 확보해 나가겠다”고 말했다.
박의명 기자 uimyung@hankyung.com
