코스맥스 "구상 실리콘 T 레진 함유 화장료 조성물 특허 취득"

코스맥스는 17일 "구상 실리콘 T 레진을 주 체질안료로 함유하는 메이크업 화장료 조성물 관련 특허를 취득했다"고 공시를 통해 밝혔다.

오정민 한경닷컴 기자 blooming@hankyung.com


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