미래창조과학부는 KAIST 최성율 교수와 조병진 교수, 안치원 박사 공동 연구팀이 차세대 포스트 실리콘 시대를 이끌 것으로 기대되는 이셀렌화몰리브덴을 원자층 두께를 유지하면서 대면적으로 키울 수 있는 기술을 개발했다고 27일 발표했다.
미래부는 이번 연구를 통해 현재 산업계가 직면하고 있는 전자소자의 소형화 문제와 태양전지 등의 효율화 문제를 획기적으로 개선할 수 있을 것이라고 평가했다. 얇고 투명하며 기계적으로 강하고 질긴 특성으로 차세대 투명 플렉서블 소자 구현에도 중요한 밑거름이 될 것이란 설명이다.
2004년 그래핀이 발견된 이후 유연하고 투명하면서도 기계적으로 우수한 그래핀과 비슷한 이차원 물질에 대한 연구가 활발히 진행 중이다. 이셀렌화몰리브덴 역시 이 같은 이차원 물질 중 하나다.
임근호 기자 eigen@hankyung.com
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