국제엘렉트릭이 강세를 보이고 있다.
7일 오전 9시 7분 현재 국제엘렉트릭은 전날보다 650원(4.50%) 오른 1만5100원에 거래되고 있다. 사흘만에 반등이다.
우리투자증권은 국제엘렉트릭에 대해 D램 공정 미세화 투자 및 VNAND 투자 개시의 이중 모멘텀을 보유하고 있다고 이날 평가했다.
유철환 우리투자증권 애널리스트는 "삼성전자는 올해 하반기 이후 D램 공정미세화 투자 및 시안(Xian) NAND 공장(VNAND 라인)증설을 본격화 할 전망"이라며 이에 따른 국제엘렉트릭의 수혜가 기대된다고 밝혔다.
이는 D램 공정미세화 투자에 이미 국제엘렉트릭의 장비가 공급되고 있는 것으로 추정되는 가운데 시안 공장 투자가 본격화될 경우 국제엘렉트릭 장비의 채용이 확대될 것으로 판단되기 때문이다. 또한 오스틴 시스템LSI라인 증설에 따른 장비 매출이 가능할 전망이어서 이는 추가적인 외형확대 기반을 마련해줄 것이라고 기대했다.
국제엘렉트릭은 2013회계연도 1분기(4~6월)에 매출액 및 영업이익 각각 318억원(전기대비 +48.6%), 67억원(흑자전환)을 기록했으며 이 기간 중 전방 업체들의 장비 투자가 본격화되지 않았었음을 감안 시 양호한 실적을 시현한 것이라고 유 애널리스트는 진단했다.
그는 전방업체의 대규모 투자가 집행되지 않은 1분기에 양호한 실적을 시현했음을 감안 시, 3분기 및 4분기에 삼성전자의 시안 공장 증설이 본격화 될 경우 국제엘렉트릭의 매출성장 및 수익성 개선이 더욱 가속화 될 것이라고 전망했다.
삼성전자는 올해 총 13조원의 자금을 반도체 시설투자로 집행할 계획을 밝혔다. 이 중 약 5조원이 시스템LSI에, 7조5000억원이 메모리반도체에, 약 5000억원이 기타 유지보수에 투자될 것으로 예상되고 있다.
유 애널리스트는 국내 반도체장비업체들의 경우 시안 공장(VNAND라인) 증설 시 장비 수주가 가능한지 여부가 매우 중요하다며 이 VNAND라인은 30~40nm 공정으로 디자인될 것으로 예상되는 바, 이는 상대적으로 공정속도가 빠른 국제엘렉트릭의 배치 타입(Batch Type) 장비 매출 확대의 기반을 마련해줄 것으로 내다봤다.
그는 2013년 국제엘렉트릭의 주당순이익(EPS)은 1911원으로 예상되며 이를 감안한 현재 주가수익비율(PER)은 7.6배로 밸류에이션 매력을 확보하고 있다고 덧붙였다.
한경닷컴 정형석 기자 chs8790@hankyung.com
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