"한 자릿수 더 저렴, 전력도 90% 덜 사용"
(서울=연합뉴스) 주종국 기자 = 일본의 프린터·카메라 제조업체인 캐논이 저가형 신기술을 내세워 반도체 제조장비 선두 주자인 네덜란드 ASML에 도전장을 내밀었다고 파이낸셜타임스(FT)가 28일(현지시간) 보도했다.
캐논은 지난해 10월 중순 '나노임프린트 리소그래피'라는 기술을 처음 공개했다.
ASML이 사용하는 제조 장비가 최첨단 극자외선(EUV)을 이용해 실리콘 웨이퍼를 에칭하는 반면 캐논은 반도체 설계 디자인을 웨이퍼에 찍어내듯 각인한다.
캐논은 이 기술을 15년 이상 개발해왔으며 이제 상용화가 가능한 시점이 온 것으로 보인다.
캐논의 '나노 임프린트' 기술이 성공한다면 일본 업체들은 지난 30년 동안 한국과 대만, 그리고 중국 경쟁업체들에 빼앗긴 우위를 되찾을 수 있을 전망이다.
리소그래피 기계 개발을 총괄한 캐논의 타케이시 히로아키 책임자는 "이 기술은 최첨단 반도체를 간단하고 저렴한 비용으로 만들 수 있는 매우 독특한 기술"이라면서 "올해나 내년에 출하를 시작하고 싶다. 시장이 핫할 때 하고자 한다"고 말했다.
캐논은 이 공정이 현재 시장을 지배하는 ASML의 EUV 기술보다 "한 자릿수" 더 저렴하며 90% 적은 전력을 사용하게 된다고 설명했다.
현재 대만의 TSMC와 한국의 삼성전자, 미국의 인텔과 같은 대규모 반도체 제조업체는 첨단 반도체를 생산하기 위해 ASML의 고도로 정교한 EUV 장비에 의존하고 있다.
하지만 ASML 장비는 매우 비싸 대당 가격이 1억 5천만 달러가 넘고 장비 제작 기간도 오래 걸리기 때문에 캐논의 신기술 장비가 시장을 공략할 수 있는 여지가 있다.
타케이시 책임자는 "우리 목표는 EUV 장비의 점유율을 빼앗는 것이 아니다. 우리는 나노 임프린트 기술이 EUV 및 다른 기술과 공존하며 업계의 전반적인 성장에 기여할 수 있다고 믿는다"고 말했다.
캐논은 마이크로프로세서보다는 3D 낸드 메모리 칩에 우선 초점을 맞춰 틈새시장을 개척할 수 있을 것으로 보고 있다.
하지만 이 기술에 회의적인 평가도 있다.
리서치회사 라디오 프리 모바일의 리처드 윈저 설립자는 "이 기술은 새로운 것이 아니다. 나노 임프린트 기술이 우수한 것이었다면 진작에 출시돼 지금쯤 이미 시장에 많이 퍼졌을 것"이라고 말했다.
캐논의 큰 과제 중 하나는 더 높은 수준의 소형화를 달성하는 데 성공률을 높이는 것이다.
회로 폭의 경우 5나노미터(10억분의 1미터) 노드에서 시작하여 2나노미터를 목표로 하고 있다.
타케이시는 이 장비의 잠재적 결함률에 대해 언급하지 않았지만, 분석가들은 EUV와 경쟁하기 위해서는 90%에 가까운 수율이 필요하다고 지적했다.
satw@yna.co.kr
(끝)
<저작권자(c) 연합뉴스, 무단 전재-재배포, AI 학습 및 활용 금지>
