이솔, EUV 공정 쓰이는 '마스크 보호박막 투과도 검사장비' 개발
(세종=연합뉴스) 차대운 기자 = 산업통상자원부 국가기술표준원은 15일 중소기업인 '이솔'(E-SOL)이 개발한 반도체 장비 기술이 국제표준으로 제안됐다고 밝혔다.
이솔은 반도체 극자외선(EUV) 공정에 쓰이는 마스크 계측·검사 장비, 마스크 보호 박막(펠리클)의 투과도 검사 장비 등을 제작·판매하는 기업이다.
이솔은 마스크를 보호하는 박막인 펠리클 투과도 검사 장비를 개발하고, 이 장비를 활용한 펠리클의 EUV 투과도 검사 방법을 신규국제 표준안으로 제안했다.
초미세 반도체를 만드는 EUV 공정은 EUV 광원이 미세회로가 그려진 마스크를 통해 웨이퍼에 회로를 새기는 방식이다.
펠리클은 마스크 위에 씌워 미세먼지 등 오염 물질로부터 마스크를 보호하는 박막이다. EUV 공정에서 펠리클의 EUV 투과도는 초미세 반도체 수율에 큰 영향을 미친다.
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