(서울=연합뉴스) 장하나 기자 = 삼성전자 반도체 공장 설계도를 중국에 유출한 혐의로 기소돼 구속 수감 중이던 전 삼성전자 상무 A씨가 최근 보석으로 풀려나면서 업계에서는 기술 유출 범죄에 대한 '솜방망이 처벌'을 우려하는 목소리가 커지고 있다.
14일 업계에 따르면 수원지법 형사 14단독은 지난 10일 산업기술보호법 위반 혐의 등으로 기소된 A씨에 대해 보석을 허가했다. 보석 보증금은 5천만원이다.
A씨는 2018년 8월부터 2019년 2월까지 삼성전자의 영업비밀인 반도체 공장 BED와 공정 배치도, 공장 설계도면 등을 부정 취득·부정 사용한 혐의로 기소됐다.
삼성전자와 SK하이닉스 등에 근무하며 은탑산업훈장을 받기도 했던 A씨는 2015년 7월 싱가포르에 반도체 제조업체를 설립, 중국 청두시와 대만 전자제품 생산업체로부터 대규모 투자를 유치한 뒤 국내 반도체 업계 인력 200여명을 영입했다.
검찰은 A씨 등이 중국 시안에 있는 삼성전자 반도체 공장과 불과 1.5㎞ 떨어진 곳에 삼성전자를 그대로 본뜬 반도체 공장을 설립하기 위해 범행한 것으로 판단했다.
다만 A씨는 재판 과정에서 혐의를 줄곧 부인했다.
업계에서는 산업기술 유출에 대한 심각성이 갈수록 커지는 가운데 기술 유출 피의자에 대한 솜방망이 처벌이 또 다른 산업 스파이를 양산할 수 있다고 우려하고 있다.
특히 대통령실에서 기술유출 관련 합동회의가 있은 지 불과 이틀 만에 법원이 A씨의 보석을 결정하면서 비판이 제기되고 있다.
앞서 대통령실은 지난 8일 국가정보원과 법무부 등 10개 부처·기관이 참석한 가운데 산업기술 보호 관련 합동 회의를 열고 '범정부 기술유출 합동 대응단'을 출범시켰다.
국가정보원 산업기밀보호센터(NISC)가 2003년부터 올해 7월까지 20년간 집계한 산업기술 해외 유출은 총 552건으로, 피해 규모는 100조원 이상인 것으로 추산된다.
이처럼 기술 유출 범죄가 야기하는 피해가 매우 심각함에도 법에 명시된 형량에 비해 실제 선고되는 양형은 매우 낮은 것으로 알려졌다.
국내 기술 유출 양형 기준은 기본 징역 8개월∼2년에 가중처벌을 해도 최대 4년이며, 국외 기술 유출은 기본 징역 1년∼3년 6개월에 가중 처벌을 해도 최대 6년에 불과하다.
산업기술보호법에 명시된 최고형량(국내 10년·국외 15년)의 절반에도 미치지 못하는 수준이다.
작년에 선고된 영업비밀 해외 유출 범죄의 형량은 평균 14.9개월에 불과했다.
산업기술 유출 범행의 수법이 교묘하게 진화하면서 해외 각국이 선제적인 예방을 위해 처벌을 강화하고 있지만, 우리나라는 여전히 처벌 수위가 낮다는 비판이 제기되는 이유다.
업계 관계자는 "핵심 기술이 해외로 유출될 경우 천문학적인 피해가 발생한다"며 "A씨가 피의자로 재판이 진행 중인 상황에서 보석으로 풀려난 것은 아직 우리나라가 기술 유출 범죄의 심각성에 대한 인식이 낮다는 방증"이라고 비판했다.
또 다른 관계자도 "'해외에 기술을 유출해 많은 돈을 벌고, 잠깐만 버티면 되는구나'라는 잘못된 인식을 심어줄 수 있다"고 우려했다.
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