삼성전자는 12일 시안하이테크기술산업개발구내 `삼성 중국 반도체 생산단지` 부지에서 기공식을 가지고 본격적인 공장 건설에 들어갔다. 이 공장은 초기 투자금 23억달러(2조6천억여원), 총투자금 70억달러(7조9천억여원)를 투자해 건설된다. 삼성의 중국 투자 중 역대 최대 규모다. 공장 건설이 순조롭게 진행되면 차세대 10나노미터급 플래시메모리 생산라인을 갖춰 오는 2014년부터 생산에 들어간다.
삼성전자 측은 "시안시가 반도체 생산라인 운용에 필요한 산업 용수와 전기 공급이 원활하고 글로벌 IT기업의 생산 중심지 및 연구 거점으로 성장하는 지역이어서 글로벌 전략을 강화하는데 최적의 장소로 평가해 반도체 공장을 짓게 됐다"고 밝혔다.
이날 기공식에는 삼성전자 권오현 부회장을 포함한 경영진을 비롯해 주중한국대사관 이규형 대사, 지식경제부 윤상직 차관, 산시성 자오러지(???) 서기 한중 정부 관계자들이 참석했다.
권오현 부회장은 환영사를 통해 "한중수교 20주년을 맞아 첨단 과학과 교육의 도시인 시안에서 기공식을 갖게 되어 영광”이라며 “삼성전자는 메모리산업에서 세계 1위 자리를 유지해 왔으며 향후에도 ‘삼성중국반도체’를 통해 최고의 제품으로 인류사회에 공헌할 것”이라고 밝혔다. 국무원 리커창(李克强) 부총리는 “이번 10나노미터급 플래시메모리 프로젝트는 한국과 중국, 양국의 강점을 살려 정보산업 분야의 긴밀한 협력을 통해 이룩한 중요한 성과”라고 축하 서신을 보냈다.
중국 시안은 주나라 때부터 도성이 있었던 역사가 깊은 중국 내륙도시로 진시황의 무덤과 당나라 때까지의 고대 유적이 발굴될 유서 깊은 도시이다. (사진=온바오닷컴)
