삼성전자 반도체 핵심 기술을 중국 기업에 유출한 혐의로 재판에 넘겨진 삼성전자 전직 직원과 협력 업체 직원이 항소심에서도 중형을 선고받았다.
23일 서울고법 형사8부(김성수 부장판사)는 산업기술보호법 위반 등 혐의로 기소된 전직 삼성전자 부장 김 모 씨에게 징역 6년과 벌금 2억원을 선고했다. 1심의 징역 7년, 벌금 2억원보다는 형량이 줄었다. 협력 업체 A사 직원 방 모 씨에게는 1심과 마찬가지로 징역 2년 6개월을 선고됐다.
재판부는 "피해 회사들에 막대한 피해가 유발될 수밖에 없고, 국가에도 악영향을 주는 중대한 범죄를 저지르고 그 범행을 주도했다"며 "피해 복구 가능성도 없어 이에 상응하는 엄한 처벌이 필요하다"고 지적했다.
다만 "피고인은 범죄 전력이 없고, 다니던 회사에서 해고된 후 국내 재취업이 어렵게 되자 부득이하게 중국 기업에 취업했고 그 과정에서 이 사건 범행에 이른 것으로 보인다"며 "핵심 기술 유출에는 관여하지 않은 점 등을 고려해 원심보다 낮은 형을 선고한다"고 설명했다.
김 씨는 국가 핵심기술인 삼성전자의 18나노 D램 반도체 공정 정보를 무단 유출해 중국 기업인 창신메모리테크놀로지(CXMT)가 제품 개발에 사용하게 한 혐의 등을 받는다.
앞서 국가정보원은 이들의 기술 유출 정황을 포착해 2023년 5월 검찰에 수사를 의뢰했다. 검찰은 김 씨가 2016년 신생 업체인 CXMT로 이직하면서 반도체 '증착' 관련 자료를 비롯해 7개 핵심 공정 기술을 유출하고, 수백억 원대의 금품을 받은 것으로 보고 있다. 또 세후 기준으로 최소 5억 원 이상의 금액을 제시하며 삼성전자와 협력사의 기술 인력 20여 명을 빼낸 정황도 확인했다.
방 씨는 김 씨와 공모해 반도체 장비 납품업체인 A사의 설계 기술 자료를 중국 CXMT에 유출한 혐의를 받고 있다.
이민형 한경닷컴 기자 meaning@hankyung.com
