회사 측은 "이번 특허로 플라즈마 발생전극에 생성되는 플라즈마의 균일성을 향상시킬 수 있고, 균일한 압력을 가해 고른 배기압력을 유지할 수 있다"고 덧붙였다.
한경닷컴 오정민 기자 blooming@hankyung.com
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