삼성전자 화성 반도체 생산라인에서 또 다시 불산누출 사고가 발생했다. 지난 1월 불산누출 사고로 1명이 사망한 지 3개월 만에 같은 사고가 반복됐다.
2일 삼성전자와 경찰에 따르면 이날 오전 11시30분께 화성사업장 반도체 생산 11라인 중앙화학물질공급장치(CCSS)에서 불산액 배관교체 작업 중 소량의 불산이 누출됐다. 작업자 3명이 배관 밖으로 흘러나온 잔류불산에 노출돼 이 중 1명은 피부에 일부 발진 현상이 나타났다.
삼성전자 관계자는 "사내 부속의원에서 1차 검진 후 정밀진단을 위해 2차 사외 병원으로 이송했다"며 "사고 후 관계기관에 신고했고, 그에 따라 현장확인 등 정확한 사고원인을 조사하고 있다"고 말했다.
한경닷컴 권민경 기자 kyoung@hankyung.com
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