회사 측은 "플라즈마를 이용한 기판처리 공정에 있어 이온 에너지 및 플라즈마 밀도가 높은 공진 플라즈마를 이용, 종래에 비해 기판처리 공정 속도를 향상시키며 기판으로 입사 또는 충돌하는 이온 에너지를 조절해 기판 또는 박막에 대한 손상을 줄일 수 있는 특허"라고 설명했다.
한경닷컴 오정민 기자 blooming@hankyung.com
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