[PRNewswire] AMEC, 자사 최초의 ICP 식각 설비 Primo nanova(R) 시스템 출시
(상하이 2018년 3월 16일 PRNewswire=연합뉴스) 이번 주 SEMICON China에서 AMEC (Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc.[http://www.amec-inc.com/ ])이 Primo nanova(R) 시스템을 정식으로 공개했다. 이 시스템은 메모리와 로직 IC의 전공정(Front-end)을 양산 처리 가능한 AMEC 최초의 유도 결합 플라스마(inductively coupled plasma, ICP) 식각기(etcher)다. 이 시스템은 혁신적인 ICP 코일 기술과 차별화된 기능을 결합해 고객이 필요로 하는 CD(critical dimension) 균일성과 제어 능력을 갖추고 있다. 이 시스템의 핵심적인 차별 요소로는 초고속 펌핑 속도를 지원하는 대칭형 체임버 구조, 파티클 생성을 저감시키는 저용량성 결합 코일 설계 및 다구역 온도제어가 가능한ESC(electrostatic chuck) 등이 있다. 이 시스템은 이들 기능 외에 다른 차별화된 기능을 바탕으로 5nm 이하의 미세 식각 공정에서 우수한 성능을 제공하며 경쟁사 대비 탁월한 가격 경쟁력(cost of ownership, CoO)을 보유하고 있다.
AMEC은 여러 고객으로부터 nanova 시스템 주문을 받아서 이미 제품을 선적한 상태이며, 첫 설비는 이미 생산에 들어가 매우 안정적인 수율을 보이고 있고, 지속해서 다양한 공정의 웨이퍼 데모를 이어 가고 있다. AMEC은 nanova설비를 공식 출시함으로써 기존의 산화물 에치설비, TSV etcher와 함께 etch 전 영역에 걸쳐 포트폴리오를 구성하여 종합 에치설비 업체로 성장할 것으로 보인다.
오늘날 IC 제조에서는 새로운 소재의 도입, 트랜지스터 구조의 변화, 이중 및 사중 패터닝 및 기타 기술 발전으로 지속적인 칩 사이즈의 소형화가 진행되고 있으며, 이와 같은 공정 환경에서 식각공정에 가장 필요로 하는 요구사항은 넓은 공정 윈도우와 웨이퍼 전반에 걸친 높은 균일성, 재현성 그리고 공정 제어 능력이다. nanova 시스템은 이러한 오늘날 IC 제조의 난관을 해소하고 필요로 하는 기술 요건을 충족하도록 제작되었다.
AMEC Etch그룹의 VP & GM Dr. Tom Ni는 "nanova 시스템은 혁신적인 설계기술과 우수한 공정 유연성을 바탕으로 고난위도의 최첨단 제품을 생산하는 고객의 까다로운 요구사항을 만족시킬 수 있도록 만들어졌다. 경쟁 우위의 생산성과 우수한 온-웨이퍼 성능을 기반으로 STI, 폴리-게이트, 스페이서, 마스크 에칭 및 에치백 같은 다양한 전도체 식각 공정을 처리할 수 있을 뿐만 아니라, ICP에 기반을 둔 기술로서 높은 종횡비(aspect ratio)의 구조, 정밀한 profile 제어가 필요한 미세 패턴의 에칭이 가능하다. 또한, 컴팩트한 풋프린트로 팹 공간 활용을 극대화할 수 있으며 소모품 사용을 줄이는 혁신적인 설계 덕분에 비용 경쟁력을 갖춘 솔루션이기도 하다. 고객이 이미 이 도구의 혜택을 보고 있다니 무척 기쁘다"라고 말했다.
Primo nanova 시스템의 핵심 기능과 이점
두 개의 로드 락 스트리퍼(load lock stripper) 기능을 갖춘 6개 체임버 구성의 이 설비는 차별화된 혁신기능을 선보이는데 이들 혁신기능을 함께 사용할 경우 생산 수율을 높이고, 처리 물량을 늘릴 수 있다. 이들 혁신기능은 다음과 같다.
- 차별화된 저용량성 결합 코일 설계: 이온밀도와 에너지의 독립적인 제어를 통해 높은 선택비와 부드러운 식각 능력을 확보. 윈도우 스퍼터링을 최소화하여 파티클 생성을 억제.
- 대칭형 체임버 설계: 균일성을 높이는 멀티존 ESC와 웨이퍼 엣지 틸팅 제어. 좌우 균일도 문제를 극복하는 대칭형 체임버 설계
- 넓은 공정 윈도우와 정밀한 로컬 프로파일 관리: 타사 대비 절대 우위의 펌핑 컨덕턴스.
- 혁신적인 PVD 코팅: 공정 안정성 개선과 파티클 축소를 위해 정밀한 체임버 환경 제공. 우수한 wall temperature 제어
Dr. Ni는 "고객의 피드백을 통해 nanova 시스템이 자사의 의도대로 우수한 온-웨이퍼 성능과 생산성, 매력적인 CoO 혜택을 고객에게 제공하고 있음을 확인했다"라며 "이 시스템은 최소한의 변경으로 다양한 공정을 처리하도록 준비된 유연한 설비이다"라고 덧붙였다.
해당 설비를 사용하고 있는 고객들은 램리서치와 어플라이드 머티리얼즈가 양분하고 있는 ICP etcher 시장에 기술적인 완성도와 가격 경쟁력을 보유한 강력한 경쟁자가 등장한 것으로 보고 있다.
Primo nanova는 Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc.의 상표다.
Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc. (AMEC) 소개
AMEC은 반도체와 고체 조명(solid-state lighting, SSL) 제품을 제조하는 글로벌 고객에 첨단 공정 기술을 제공하는 중국 굴지의 기업이다. 상하이에 본사를 둔 AEMC은 유전체(dielectric)와 TSV 식각 도구를 공급하는 견실한 업체로, 칩 메이커가 최소 7nm 공정 노드에서 양산 대응이 가능하도록 설비 지원을 하고 있다. 지금까지 아시아 전역 40개 첨단 반도체 공장에서 거의 800 체임버에 달하는 AMEC 공정 제품이 판매됐다. AMEC은 유럽에도 잘 정착했으며, AMEC MEMS 설비는 주요 IDM의 생산에 사용된다. 그뿐만 아니라 AMEC은 MOCVD 시스템을 기반으로 SSL 제조업체가 오늘날 최첨단 LED 제품을 만들도록 지원한다. AMEC에 대한 추가 정보는 www.amec-inc.com을 통해 얻을 수 있다.
사진 - https://photos.prnasia.com/prnh/20180312/2077385-1
AMEC의 Primo nanova(R) ICP 식각 시스템
출처: Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc.
[편집자 주] 본고는 자료 제공사에서 제공한 것으로, 연합뉴스는 내용에 대해 어떠한 편집도 하지 않았음을 밝혀 드립니다.
(끝)
<저작권자(c) 연합뉴스, 무단 전재-재배포 금지>
뉴스
