KIST·고려대 연구진 새 공정 개발…"전자·우주항공 소재로 적용 가능"
(서울=연합뉴스) 신선미 기자 = 900℃의 고온을 견디며 방사선도 막는 신소재 '화이트그래핀'을 쉽게 만들 수 있는 기술이 나왔다.
한국과학기술연구원(KIST)은 김명종 전북분원 양자응용복합소재연구센터 박사와 강상욱 고려대 교수 공동연구진이 고분자로 이 소재를 제작하는 간단한 공정을 개발했다고 2일 밝혔다.
화이트그래핀은 붕소와 질소 원자 한 층으로 이뤄진 평면 구조의 소재로, 탄소 원자로 구성된 그래핀과는 특성이 다르다. 전기가 통하지 않고 900℃의 고온에서도 타지 않고 견디며 방사선을 차폐한다. 또 구조를 변형하면 전기를 발생시키기도 한다. 이런 성질로 인해 우주항공, 원자력, 자동차, 전기·전자 분야 등에서 널리 쓰일 가능성이 있지만, 이를 생산하는 공정이 무척 까다롭다.
이번에 연구진은 니켈 기판을 붕소와 질소로 이뤄진 고분자(보라진 올리고머·borazine oligomer) 용액으로 코팅하고 1천℃의 열을 가하는 방식으로 화이트그래핀을 만들어내며 공정 문제를 해결했다. 김명종 박사는 "니켈이 촉매로 작용하며 고결성의 화이트 그래핀을 확보할 수 있게 됐다"고 밝혔다.
게다가 새 방법으로는 화이트그래핀을 얼마든지 대면적으로 생산할 수도 있으며 고가의 진공 장치도 필요 없다는 것이 연구진의 설명이다.
이번 연구는 미래창조과학부 KIST 기관고유사업과 4U 복합소재 프로젝트의 지원으로 진행됐다.
연구 결과는 온라인 학술지 '사이언티픽 리포츠'(Scientific Reports) 1월 11일 자에 실렸으며 관련 기술은 국내특허와 미국특허로 각각 등록됐다.
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