삼성전자가 최근 `국제 오디오 공학회 2019`에서 선정한 논문 상위 10개 목록에 3개를 올리며 기술력을 입증했다.
미국 뉴욕에 본부를 둔 국제 오디오 공학회는 70년 역사를 가진 공신력 있는 학회로 꼽힌다.
이번에 TOP 10에 선정된 것은 삼성 리서치 아메리카(SRA) 소속 오디오랩에서 제출한 논문이다.
음향 성능 최적화를 위한 스피커 포트 디자인, 소리 왜곡을 보정하는 비선형 제어 기술, 근거리 반응 기술을 이용한 헤드폰 음향 개인 최적화 기술 등 총 3개다.
일반적으로 스피커는 밀폐형과 구멍이 나있는 포트형으로 구분된다.
포트형 스피커는 밀폐형에 비해 깊은 저음을 내는데 용이하지만 공기가 통하는 구조라 잡음이 생기기 쉽다.
삼성전자는 노이즈를 최소화 해 스피커 성능을 최적화 하는 기술을 개발했다.
또 다른 논문의 주제는 소리의 왜곡을 제어해 원하는 소리를 정확하게 내주는 알고리즘 기술이다.
소리는 스피커에 들어오는 전극의 힘에 따라 불규칙한 왜곡이 발생한다.
다만 이 기술은 소리가 스피커에 도달하기 전에 전극을 보정해 의도한 소리를 정확하게 내준다.
마지막으로 사람마다 다르게 들리는 소리를 일정하게 최적화 하는 헤드폰 관련 기술이 선정됐다.
삼성 리서치 아메리카에서 오디오랩을 맡고 있는 앨런 드밴티어 상무는"국제 오디오 공학회를 통해 삼성전자의 오디오 기술력을 인정받아 기쁘다"고 전했다.
이어 "지속적인 혁신 기술 개발과 사업부와의 협력을 통해 사용자들의 오디오 경험을 풍부하게 만드는 데 기여하겠다"고 덧붙였다.
