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에스앤에스텍이 올 연말 경기 용인의 극자외선(EUV) 블랭크마스크 생산센터를 가동한다. 내년엔 삼성전자에 극자외선(EUV) 블랭크마스크를 공급할 전망이다. 블랭크마스크는 반도체 회로도를 그릴 때 사용하는 포토마스크의 원재료다.정수홍 에스앤에스텍 회장(사진)은 27일 경기 성남 사무실에서 한 인터뷰에서 “글로벌 메모리 업체와 현재 진행 중인 EUV 블랭크마스크 퀄 테스트(적격성 평가)가 마지막 단계”라며 “향후 6개월 안에는 마무리될 것으로 보고 있다”고 말했다. 정 회장은 협의 중인 글로벌 메모리 업체에 대해 말을 아꼈지만, 업계는 삼성전자로 추정했다. 양측은 웨이퍼 한 장당 결함(디펙트) 수를 세계 최고 수준인 10개 이하로 낮추기 위해 품질 개선 작업을 하고 있다.
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에스앤에스텍은 국내에서 유일하게 블랭크마스크를 생산하고 있다. 이 회사는 EUV 블랭크마스크보다 기술력이 한 단계 낮은 심자외선(DUV) 블랭크마스크를 삼성전자와 SK하이닉스 등에 공급해왔다. EUV 블랭크마스크는 개당 가격이 8000만~1억원으로 DUV 블랭크마스크 가격(300만~400만원)보다 수십 배 비싸다.
현재 EUV 블랭크마스크는 일본 호야(HOYA), AGC(옛 아사히글라스), 신에츠 등 일본 업체가 사실상 과점하고 있다. 삼성전자와 SK하이닉스도 이들 업체에 대한 의존도가 매우 높다. 소부장업계에선 중장기적으로 삼성전자뿐 아니라 SK하이닉스도 에스앤에스텍에서 EUV 블랭크마스크를 공급받을 가능성을 점치고 있다. 정 회장도 이날 인터뷰에서 “에스앤에스텍은 세계에서 유일한 비(非)일본계 블랭크마스크 기업”이라며 “공급망 다변화를 추진하는 메모리 반도체 업체에 대안이 될 수 있다”고 강조했다.
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에스앤에스텍은 EUV 블랭크마스크 중에서도 고난도의 위상변이마스크(PSM) 제품은 삼성전자와 공동개발(JDP)을 하는 것으로 알려졌다. 정 회장은 “고객사의 공정 조건에 맞춰 최적화하는 작업을 하고 있다”고 말했다.
EUV 블랭크마스크 양산에 맞춰 생산능력도 확대할 계획이다. 에스앤에스텍은 2021년부터 1000억원을 투자해 용인 공장에 EUV 전용 생산센터를 구축하고 있다. 정 회장은 “오는 12월이면 주요 장비 설치가 모두 완료된다”며 “생산능력은 현재의 두 배 수준으로 늘어날 것”이라고 말했다. 이어 “EUV 블랭크마스크 공급이 본격화하면 회사 매출과 수익성이 크게 개선될 것”이라고 자신했다. 지난해 에스앤에스텍 매출은 2437억원으로 1년 전보다 677억원(38.5%) 증가했다. 같은 기간 영업이익은 295억원에서 504억원으로 껑충 뛰었다.
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성남=이광식 기자 bumeran@hankyung.com
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