세계적인 반도체장비 업체인 네덜란드 ASML이 극자외선(EUV) 노광장비인 'NXE:3300B'의 성능을 하루 500장 이상의 웨이퍼를 처리할수 있게 향상시켰다고 1일 밝혔다.
이 장비는 개선된 오버레이와 변형조명법이 적용된 18나노 공정과 재래식 조명법이 적용된 22나노의 공정을 지원하는 차세대 노광장비다.
아직 양산하기 전 테스트 단계에 있으며 직전에는 하루 200장의 웨이퍼 처리가가능했다.
피터 베닝크 ASML 최고경영자(CEO)는 "새 장비로 하루에 637장의 웨이퍼를 처리할 수 있게 됐다"며 "EUV 플랫폼으로 대량 생산이 가능한 지를 시험하는 내구성 테스트에서 역량을 인정받았다"고 말했다.
노광장비는 빛을 이용해 반도체 회로의 정밀한 밑그림을 그리는 장비다.
abullapia@yna.co.kr(끝)<저 작 권 자(c)연 합 뉴 스. 무 단 전 재-재 배 포 금 지.>