우리로광통신, 평면광도파로소자의 반사면 형성 방법 특허 취득

입력 2014-04-16 11:15
[ 김민재 기자 ] 우리로광통신은 평면광도파로소자의 반사면 형성 방법에 관한 특허권을 취득했다고 16일 공시했다.

회사 측은 "식각되는 부분의 폭에 비례해 깊이가 깊어지는 특성을 이용, 반사면을 형성해 공정시간과 제조원가를 절감할 수 있다"며 "스플리터에 적용될 예정"이라고 말했다.

한경닷컴 김민재 기자 mjk1105@hankyung.com