특허분야 한중 협력 확대한다…'특허 공동심사' 양해각서 체결
한중 특허청장 회담서 '디자인 우선권 서류 전자적 교환 조속 추진'도 합의
"중국 진출 기업에 도움…지재권 분야 국제 규범 선도에도 기여"
(대전=연합뉴스) 유의주 기자 = 성윤모 특허청장은 지난 17일 중국 항저우 황룡호텔에서 션창위 중국 국가지식산권국장과 회담하고 특허·디자인 분야에서 양국의 협력성과가 국제적인 성공 사례로 이어지도록 협력 수준을 높이기로 합의했다.
19일 특허청에 따르면 이번 회담에는 양국에 출원된 같은 발명을 한중 심사관이 함께 심사하는 '특허 공동심사(CSP) 사업'에 관한 양해각서(MOU)가 체결됐다.
중국이 최초로 CSP 사업에 참여하기 위해 한국과 손을 잡았다는 데 의미가 있으며, 이 양해각서는 올해 양국 중앙정부 부처 간에 처음으로 체결된 것이다.
현재 전 세계에서 한미, 미·일 간 2개의 CSP가 운영 중이다.
양국 특허청은 디자인 우선권 서류의 전자적 교환을 조속히 추진하는 방안에도 합의했다.
한국 출원인이 중국에 디자인을 출원할 때나, 그 반대의 경우 제출해야 하는 우선권 서류를 양국 특허청이 전자적으로 교환하는 것으로, 서류제출에 따른 비용과 부담이 많이 줄어들 것으로 기대된다.
지난해 한국에서 중국으로 출원된 디자인 건수는 모두 2천135건으로, 아직 국가 간에 디자인 우선권 서류를 전자적으로 교환하는 사례는 없다.
특허청은 중국이 추진 중인 디자인 심사역량 강화, 디자인 분류체계 개발 등에 적극적으로 협조하기로 하는 등 디자인 분야도 협력을 강화하기로 했다.
그동안 특허청은 CSP, 디자인 우선권 서류 전자적 교환 등 중국이 새롭게 시도하는 대외협력 사업을 함께하기 위해 실무협의를 지속해 왔다.
내외부적 요인으로 지체되던 논의가 최근의 우호적 한중 관계 속에서 진전을 보이며 지재권 분야의 협력 강화로 이어진 것으로 풀이된다.
성 청장은 "중국이 세계 최대 시장이자 지재권 최다 출원 국가라는 점에 비춰 이번 회담에서 합의된 지재권 획득 절차 간소화 조치 등은 중국 진출 우리 국민과 기업에 적지 않은 편익을 줄 것"이라며 "한국과 중국의 협력 증진이 지재권 분야 국제 논의와 규범을 선도하는 데 양국 모두에게 큰 보탬이 될 것"으로 기대했다.
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