SK하이닉스가 중국 우시에서 C2F 준공식을 개최했다고 오늘(18일) 밝혔습니다.
C2F는 기존 D램 생산라인인 C2를 확장한 것으로, 미세공정 전환에 따른 생산공간 부족 문제를 해결하기 위해 지난 2016년 생산라인 확장이 결정됐습니다.
`새로운 도약, 새로운 미래`라는 주제로 열린 이 날 준공식 행사에는 리샤오민 우시시 서기, 궈위엔창 강소성 부성장, 최영삼 상하이 총영사, 이석희 SK하이닉스 대표이사, 고객 및 협력사 대표 등 약 500명이 참석했습니다.
SK하이닉스는 2004년 중국 장쑤성 우시시와 현지 공장 설립을 위한 계약을 체결하고 2006년 생산라인을 완공해 D램 생산을 시작한 바 있습니다.
SK하이닉스 관계자는 "당시 건설된 C2는 SK하이닉스의 첫 300mm 팹(FAB)으로 성장에 큰 역할을 담당해 왔지만 공정 미세화에 따른 공간 부족으로 확장하게 됐다"고 설명했습니다.
SK하이닉스는 2017년 6월부터 2019년 4월까지 총 9,500억원을 투입해 추가로 반도체 생산공간을 확보했습니다.
이번에 준공한 C2F는 건축면적 5만8천㎡(1만7천5백평, 길이 316m, 폭 180m, 높이 51m)의 단층 팹으로 기존 C2 공장과 비슷한 규모입니다.
SK하이닉스는 C2F의 일부 클린룸 공사를 완료하고 장비를 입고해 D램 생산을 시작했습니다.
향후 추가적인 클린룸 공사 및 장비입고 시기는 시황에 따라 탄력적으로 결정할 예정입니다.
강영수 SK하이닉스 우시FAB담당 강영수 전무는 "C2F 준공을 통해 우시 팹의 중장기 경쟁력을 확보하게 됐다"며 "C2F는 기존 C2 공장과 `원 팹(One FAB)`으로 운영함으로써 우시 팹의 생산·운영 효율을 극대화할 것"이라고 말했습니다.
