MOCVD는 반도체 공정 중 챔버(Chamber) 안에서 증기압이 높은 금속유기화합물을 기화시켜 원하는 박막을 반도체 웨이퍼 상에 안정적으로 성장시키는 장비를 말합니다.
주성엔지니어링은 자사의 MOCVD 장비가 우수한 박막조성과 대면적 균일도, 높은 증착속도와 균일성을 얻을 수 있다는 점에서 국내외 고객사의 좋은 평가를 얻고 있다고 설명했습니다.
한편 주성엔지니어링은 최근 신개념 공간분할 플라즈마 화학증착시스템(SDP CVD System: Space Divided Plasma Chemical Vapor Deposition System)을 연이어 수주하기도 했습니다.