유출된 삼성전자의 핵심 기술을 기반으로 투자비를 산정하는 업무를 담당한 중국 창신메모리테크놀로지(CXMT) 전 직원인 전모씨가 항소심에서 징역 5년을 선고받았다. 1심(징역 7년)보다 형이 줄었다.
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서울고법 형사3부(부장판사 이승한)는 22일 산업기술의 유출 방지 및 보호에 관한 법률 위반 등 혐의를 받는 전씨에게 징역 5년을 선고했다.
재판부는 “전씨의 범행으로 삼성전자에 회복할 수 없는 피해가 발생했고 국가 차원의 산업 경쟁력에도 중대한 위협이 발생했다”면서도 “전씨가 공소사실을 인정하고 반성하는 점 등을 고려하면 1심의 징역 7년은 너무 무겁다”고 설명했다.
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전씨가 개발 업무에 직접 관여하지 않은 점도 고려됐다. 전씨는 삼성전자 출신으로 함께 CXMT에 입사한 개발팀장 A씨의 지시에 따라 유출된 기술을 취합하고 투자비를 산정하는 역할을 맡았다는 게 재판부의 판단이다. 이 사건과 관련한 다른 재판에 증인으로 출석해 증언한 것도 감형 사유였다. 재판부는 “전씨는 이 사건 관련자들의 재판에서 실체적 진실에 기반한 판단이 이뤄질 수 있도록 적극 협조하고 있다”고 판시했다.
전씨는 1심과 달리 항소심에서 삼성전자 출신 개발자가 기억만으로 PRP(반도체 제조 핵심 레시피)를 재현하는 건 어렵다고 주장했다. 전씨는 삼성전자 출신 박사인 박모씨가 수정한 PRP를 A씨가 철저하게 관리하는 정황을 보고 기술 유출을 의심했다고 밝혔다. 다만 전씨는 A씨 등에게 기술 유출 사실을 직접 확인하지는 않았다고 부연했다.
전씨는 CXMT 근무 당시 검찰·국정원 등의 수사에 대비했다는 사실도 인정했다. 전씨는 “CXMT 초기 멤버는 삼성전자에서 해고당한 인력”이라며 “삼성전자에서 이를 알면 수사기관에 의뢰할 것이고, 결국 CXMT에서도 해고당할까 두려웠다”고 했다.
전씨는 앞서 재판 과정에서 “검사가 실형을 면하게 해주겠다며 허위 진술을 강요했다”고 주장하기도 했다. 지난 1일 열린 결심 공판에서는 “법정과 검찰청에 처음 와서 감당하기 힘들었다”며 혐의를 인정했다.
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CXMT 한국팀의 최초 입사자인 전씨는 삼성전자에서 유출된 18나노 D램 기술 등 자료를 취합해 투자비를 산정한 혐의를 받는다. 전씨는 1987년부터 2015년까지 삼성전자에서 근무한 뒤 2016년 8월 CXMT에 입사한 이후 같은 업무를 담당했다. 삼성전자의 기술을 CXMT에 유출한 혐의를 받는 다른 삼성전자 직원들에 대한 재판도 현재 1심이 진행 중이다.
임민규 기자 jessimg@hankyung.com
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