"EUV 적용 7나노 공정 올하반기 시험생산"…3나노 공정 로드맵도 소개
(서울=연합뉴스) 이승관 기자 = 삼성전자[005930]는 현지시간 22일 미국 캘리포니아주(州) 산타클라라에서 '삼성 파운드리 포럼 2018'을 열고 파운드리 사업 전략과 첨단 공정 로드맵 등을 소개했다고 23일 밝혔다.
파운드리는 생산라인 없이 반도체 설계 만을 하는 팹리스(fabless) 기업들로부터 설계 도면을 받아 반도체를 생산해 넘겨주는 사업이다.
이번 행사에는 팹리스 업계의 고객사와 파트너사, 애널리스트 등 약 500여명이 참석했으며, 삼성전자는 최근 확장세가 이어지고 있는 파운드리 시장에서의 사업 비전을 제시했다.
특히 현재 주력인 14/10나노 공정은 물론 차세대 첨단 미세 공정기술인 극자외선(EUV)을 활용한 7나노, 5나노, 4나노 공정과 '게이트 올 어라운드'(GAA)의 신기술이 적용된 3나노 공정까지의 로드맵을 공개했다.
이와 관련, 삼성전자는 경기도 화성 반도체 공장의 파운드리 라인에서 EUV 장비를 적용한 최초의 7나노 로직 공정 기술을 통해 올해 하반기 시험 생산을 시작한 뒤 내년 상반기에는 양산 체제에 돌입한다는 계획이다.
나아가 올 2월 착공한 화성 EUV 전용 라인을 내년 하반기에 완공해 오는 2020년부터 본격적으로 가동할 예정이다.
EUV 노광장비는 반도체의 재료인 웨이퍼에 빛을 쫴 반도체 회로를 형성시키는 설비다. 현재 네덜란드의 반도체장비 회사인 ASML에서 유일하게 생산하는데, 대당 단가가 1천500억∼2천억원 안팎의 고가인 것으로 알려졌다.
삼성전자는 화성 EUV 라인을 통해 앞으로 모바일·서버·네트워크·HPC(슈퍼컴퓨터) 등 고성능·저전력이 요구되는 첨단 반도체 시장을 주도함으로써 글로벌 파운드리 업계의 선두주자인 대만 TSMC의 아성을 넘본다는 전략이다.
이밖에 포럼에서는 최첨단 데이터센터와 인공지능(AI), 자동차 전장 등 주요 응용처별 솔루션을 소개하는 시간도 마련됐다.
파운드리 사업부 전략마케팅팀장인 배영창 부사장은 "지난 한해에 걸쳐 EUV 공정을 적용한 포트폴리오를 강화하는 데 주력해왔다"면서 "향후 GAA 구조를 차세대 공정에 적용해 기기 간 연결성을 강화한 새로운 시대를 열어갈 수 있을 것으로 기대한다"고 말했다.
'삼성 파운드리 포럼 2018'은 미국을 시작으로 6월 중국 상하이(上海), 7월 서울, 9월 일본 도쿄(東京), 10월 독일 뮌헨 등으로 이어질 예정이다.
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